功能特点：
GX400系列工业金相显微镜适用于对工件表面的组织结构与几何形态进行显微观察。采用优良的无限远光学系统与模块化功能设计理念，可以方便升级系统，实现偏光观察等功能，导柱升降装置，可以快速调整工作台与物镜之间的距离，适用于不同厚度工件检测。机械移动式载物平台可有效定位工件观察部位。调焦机构采用圆柱滚子导向传动，机构升降平稳。产品适用于精密零件，集成电路，包装材料等产品检测。
规格参数:
|
规格型号 |
GX400DIC明场 |
GX400BD.DIC明暗场 |
|
总放大倍率： |
50×、100×、200×、500× |
50×、100×、200×、500× |
|
物镜： |
微分干涉物镜5×、10×、20×，无限远50× |
明暗场微分干涉5×、10×、20×，明暗场50× |
|
物镜转换器： |
内倾五孔滚珠内定位 |
|
广角大目镜： |
平场PL10×/22mm |
|
分划目镜： |
10×/22，格值0.1mm，视度补偿 |
|
测微尺C1： |
格值0.01/1mm |
|
|
|
双目镜筒： |
铰链式，倾角30°，瞳距55-75mm，屈光度±5D可调 |
|
影像输出： |
三目同步光学输出，标准接口，可100%通光摄影 |
|
仪器基座： |
300×240mm，附机械载物台，便于大试样目标定位 |
|
机械载物台： |
外形尺寸185×140mm，移动范围35×30m |
|
降机构： |
圆柱导向升降120mm,适宜高大试样(h≤80mm) |
|
调焦机构： |
同轴粗微动，升降30mm，微动格值2μm，调焦定位和松紧调节 |
|
同轴落射照明： |
可变孔径和视场光阑，带滤色片，卤素灯12V/50W |
|
偏光装置： |
内切换起/检偏振器，起偏器可360°旋转 |
|
微分干涉： |
相衬插板适用于微分干涉物镜 |
|
滤色片： |
落射滤色片组：黄/绿/蓝/磨砂 |
|
输入功率： |
AC220V/50Hz/30VA |
|
外形尺寸： |
415×345×380mm |
放大倍率和视场
|
型号 |
微分干涉物镜 /明暗场微分干涉物镜 |
目镜WF10× /22 |
|
放大倍率 |
数值孔径 N.A |
工作距离 mm |
物视场 mm |
总放大率 |
GX400DIC
明场 |
LMPlan 5×DIC |
0.12 |
15.0 |
4.4 |
50× |
|
LMPlan 10×DIC |
0.30 |
10.5 |
2.2 |
100× |
|
LMPlan 20×DIC |
0.40 |
4.50 |
1.1 |
200× |
|
PLL 50× |
0.70 |
3.68 |
0.44 |
500× |
GX400BD.DIC
明暗场 |
LMPlan 5× BDDIC |
0.12 |
7.90 |
4.4 |
50× |
|
LMPlan 10× BDDIC |
0.30 |
6.03 |
2.2 |
100× |
|
LMPlan 20× BDDIC |
0.40 |
1.40 |
1.1 |
200× |
|
PLL 50× BD |
0.70 |
1.75 |
0.44 |
500× |
选配件
1、无限远物镜（40×、60×、80×、100×），明暗场物镜（40×、60×、80×、100×）
2、目镜：平场PL12.5×，宽视野WF20×
3、显微摄影摄像，图像处理/分析系统
4、金相制样设备：抛光机，预磨机,镶嵌机，切割机及辅料等
